中微公司刻蚀设备在“芯”2019年净利润倍增

4月17日，中微公司披露2019年年度报告。期内，公司实现营收19.47亿元，同比增长18.77%;归属于上市公司股东的净利润1.89亿元，同比增长107.51%，利润倍增。

    刻蚀设备在“芯”中的重要角色

    当天公司举行了线上业绩说明会，公司董事长、总经理尹志尧、董事会秘书、副总裁刘晓宇、财务负责人、副总经理陈伟文出席。

    “长期以来，公司一直致力于打造具有国际竞争力的产品并进行多元化产品布局。”尹志尧表示。在设备的研发、设计和制造中，公司重视核心技术、产品创新及知识产权保护，始终强调技术先进性、创新、差异化和服务。

    提及刻蚀设备行外人可能不了解是什么。60年来从电子计算机到智能手机-微观器件加工面积缩小了一万亿倍，而半导体设备的创新和进步就是实现这个万亿倍缩小的关键。在这个环节中最重要的就是加工微观结构的光刻机和等离子刻蚀机。

    换言之，256G手机回到50年前，相当于5层楼?是200万栋5层楼。1950S-128K毫米级计算机通过光刻机以及刻蚀设备对芯片微观结构的调整缩小100万倍相当于1980S-128K微米级集成电路元件。通过不断的技术创新再缩小100万倍就相当于2010S-128G纳米级集成电路元件。

    参股具有协同效应潜力项目

    据悉，中微公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。

    根据2019年美国半导体产业咨询公司VLSIResearch对全球半导体设备公司的“客户满意度”调查和评比报告，中微公司综合评分保持全球第三，并在芯片制造设备专业型供应商和专用芯片制造设备供应商评比中均名列第二，同时，全球晶圆制造设备商评级为五星级公司仅有五家，中微公司是其中之一。

    “公司在今后的十年将采取三个维度的发展策略。公司计划继续通过有机生长，在不断开发新的产品，不断提高市场占有率的同时，将在适当时机，通过投资、并购等外延式生长途径，扩大产品和市场覆盖。力争在未来十年内，发展成为在规模上和市场占有率上成为国际一流的半导体设备公司。”尹志尧表示。

    第一个维度是从目前的等离子体刻蚀设备，扩展到化学薄膜设备，和刻蚀及薄膜有关的测试等关键设备。第二个维度是，扩展在泛半导体设备领域的产品，从已经开发的用于制造MEMS和CIS影像感测器的刻蚀设备、制造蓝光LED的MOCVD设备，扩展到更多的微观器件加工设备，及制造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微观器件的设备产品。第三个维度是探索核心技术在环境保护、工业互联网等领域，以及在国计民生上的新的应用。

    据介绍，目前，中微公司同时兼顾外延性发展，子公司中微汇链、中微惠创在新业务拓展领域取得了积极的进展。此外，公司也参股投资了一些具有协同效应潜力的项目。

    值得一提的是，公司创始人尹志尧在半导体芯片和设备产业有超过30年的行业经验，是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者之一。公司其他联合创始人、核心技术人员和重要的技术、工程人员，包括杜志游、倪图强、麦仕义等各专业领域的专家，其中很多是在国际半导体设备产业耕耘数十年，为行业发展做出杰出贡献的资深技术和管理专家。

    “刻蚀是半导体生产流程的重要环节，设备国产化对于半导体国产替代不可或缺。但是刻蚀设备属于技术高度密集型产品，目前国内外的产品技术还是有一定差距的。”香颂资本执行董事沈萌分析道。

    资深投行人士王骥跃在接受《证券日报》记者采访时表示，“中微公司的上市有利于其自身发展，也有利于国内产业发展，技术进步才能减少对外依赖，减少‘卡脖子’的事发生。”

(刘会玲)